산업

SK하이닉스, 중국 우시 D램 확장 생산라인 준공...생산 규모는 시황에 탄력적 운영

발행일시 : 2019-04-18 18:30
이석희 SK하이닉스 CEO가 중국 우시 추가 생산라인(C2F) 준공식에서 환영사를 하고 있다. <이석희 SK하이닉스 CEO가 중국 우시 추가 생산라인(C2F) 준공식에서 환영사를 하고 있다.>

SK하이닉스가 중국 우시 D램 생산라인을 확장했다. 중국 우시 신공장은 다음달 본격 양산에 들어갈 예정이지만, 생산규모는 시황에 따라 탄력적으로 결정할 것으로 보인다.

SK하이닉스는 18일 중국 우시에서 D램 추가 생산라인 'C2F' 준공식을 열었다. 'C2F'는 기존 D램 생산라인인 C2를 확장한 것으로, 지난 2016년 생산라인 확장을 결정했다.  공정 미세화에 따라 공정수가 늘고 장비 대형화로 공간이 부족해 진 따른 것으로 9500억원이 투입됐다.

우시 팹은 SK하이닉스의 D램 거점으로,  이번 추가 생산라인은 하이닉스의 주력제품인 20나노 초·중반(2z·2y nm)과 10나노 후반(1x nm) 제품이 생산된다. 이번에 준공한 C2F는 건축면적 5만8000㎥(1만7500평, 길이 316m, 폭 180m, 높이51m)의 단층 팹으로, 기존 C2 공장과 비슷한 규모다.

'새로운 도약, 새로운 미래'를 주제로 열린 이 날 준공식 행사에는 리샤오민 우시시 서기, 궈위엔창 강소성 부성장, 최영삼 상하이 총영사, 이석희 SK하이닉스 대표이사, 고객 및 협력사 대표 등 약 500명이 참석했다. 최태원 SK그룹 회장은 참석하지 않았다.

강영수 SK하이닉스 우시FAB담당 전무는 "C2F 준공을 통해 우시 팹의 중장기 경쟁력을 확보하게 됐다"며 "C2F는 기존 C2 공장과 '원 팹(One FAB)'으로 운영 함으로써 우시 팹의 생산·운영 효율을 극대화할 것"이라고 말했다.

김민우 기자 min@nextdaily.co.kr
 

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