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삼성전자, EUV 기반 5나노 파운드리 공정 개발

발행일시 : 2019-04-16 11:00

삼성전자(대표 김기남 김현석 고동진)가 EUV(극자외선) 기반 '5나노 공정' 개발에 성공했다.

삼성전자가 이번에 개발한 차세대 '5나노 공정'은 셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있으며, 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능을 제공한다. 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP)을 활용할 수 있어, 기존 7나노 공정 사용업체는 5나노 공정 설계비용을 줄일 수 있다.

건설 중인 삼성전자 화성캠퍼스 EUV 라인 전경 [사진=삼성전자] <건설 중인 삼성전자 화성캠퍼스 EUV 라인 전경 [사진=삼성전자]>

삼성전자는 7나노와 6나노 파운드리 공정에서도 양산을 본격화하고 있다. 올해 초 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 제품 양산을 시작했으며, 이달 중 본격 출하할 계획이다. 6나노 공정 기반 제품에 대해서는 대형 고객과 생산 협의를 진행하고 있으며, 올해 하반기 양산 예정이다.

또 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 'MPW 서비스'를 최신 5나노 공정까지 확대 제공할 계획이다. 파운드리 지원 프로그램(SAFE)을 통해 공정 설계 키트(PDK), 설계 방법론(DM), 자동화 설계 툴(EDA) 등 5나노 공정 기반 제품 설계를 돕는 디자인 인프라도 제공한다.

파운드리 사업은 전후방 연관 효과가 크다. 삼성전자는 첨단 공정 역량 강화를 통해 국내 반도체 생태계 발전과 시스템 반도체 산업 육성에도 큰 역할을 할 것으로 기대하고 있다.

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀(부사장)은 "삼성전자의 EUV 기반 최첨단 공정은 성능과 IP 등에서 다양한 강점을 가지고 있어 5G, AI, 전장 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다"며, "향후에도 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 것"이라고 밝혔다.

한편, 삼성전자는 최신 파운드리 생산시설인 화성캠퍼스 S3 라인에서 EUV 기반 최첨단 공정 제품을 생산하고 있으며, 현재 건설 중인 화성캠퍼스 EUV 전용 라인을 2020년부터 본격 가동할 계획이다.

김광회 기자 elian118@nextdaily.co.kr

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